Kimpalan rintangan: Digunakan untuk mengimpal bahagian logam nipis. Bahan kerja diapit di antara dua elektrod, dan arus besar digunakan untuk mencairkan permukaan sentuhan elektrod, dengan itu kimpalan dicapai melalui pemanasan rintangan bahan kerja. Bahan kerja terdedah kepada ubah bentuk. Kimpalan rintangan bercantum dari kedua-dua belah, manakala kimpalan laser hanya bercantum dari satu sisi. Elektrod yang digunakan dalam kimpalan rintangan memerlukan penyelenggaraan yang kerap untuk mengeluarkan oksida dan logam yang melekat pada bahan kerja. Kimpalan laser pada sendi pusingan logam nipis tidak melibatkan sentuhan dengan bahan kerja, dan rasuk boleh menembusi kawasan yang sukar dicapai dengan kimpalan konvensional. Ia juga menawarkan kelajuan kimpalan yang lebih pantas.
Kimpalan arka argon: Menggunakan-elektrod yang tidak boleh digunakan dan gas pelindung. Ia sering digunakan untuk mengimpal bahan kerja nipis, tetapi kelajuan kimpalan lebih perlahan, dan input haba adalah lebih besar daripada kimpalan laser, menjadikannya terdedah kepada ubah bentuk.
Kimpalan arka plasma: Sama seperti kimpalan arka argon, tetapi obornya menghasilkan arka termampat untuk meningkatkan suhu arka dan ketumpatan tenaga. Ia lebih pantas dan mempunyai kedalaman penembusan yang lebih besar daripada kimpalan argon argon, tetapi kurang daripada kimpalan laser.
Kimpalan pancaran elektron: Menggunakan pancaran elektron berketumpatan-tenaga tinggi- tinggi untuk memberi kesan kepada bahan kerja, menghasilkan haba yang besar dalam kawasan kecil pada permukaan bahan kerja, mewujudkan kesan "lubang kunci", sekali gus mencapai kimpalan penembusan dalam. Kelemahan utama kimpalan rasuk elektron adalah keperluan untuk persekitaran vakum yang tinggi untuk mengelakkan penyebaran elektron, peralatan yang kompleks, had saiz dan bentuk bahan kerja disebabkan oleh ruang vakum, dan keperluan ketat untuk kualiti pemasangan bahan kerja. Walaupun kimpalan rasuk elektron bukan{4}}vakum boleh dilakukan, pemfokusan yang lemah disebabkan oleh penyerakan elektron menjejaskan keputusan. Kimpalan pancaran elektron juga membentangkan isu pesongan magnetik dan-sinar. Oleh kerana elektron dicas, ia dipengaruhi oleh pesongan medan magnet, dengan itu memerlukan penyahmagnetan bahan kerja sebelum mengimpal. X-sinar amat kuat di bawah tekanan tinggi, memerlukan perlindungan pengendali. Kimpalan laser, sebaliknya, tidak memerlukan ruang vakum atau penyahmagnetan pra{11}}kimpalan bahan kerja. Ia boleh dilakukan di atmosfera dan tidak mempunyai -isu perlindungan sinar X, membenarkan operasi dalam talian dalam talian pengeluaran dan kimpalan bahan magnetik.
